晶岭科技

河北工业大学









	由河北工业大学刘玉岭教授多年研究的二氧化硅水溶胶抛光液，抛光速率达到16μm/h，粗糙度达到1Å以下。实验多年，工艺纯熟。我公司新近推出一种芯片划片液，可替代进口。该产品能减少划片应力，易清洗和去除划片过程中产生的碎屑和颗粒。使用时加水200倍，pH值为中性。公司新开发了超大规模集成电路多层铜布线CMP抛光液,计算机硬盘抛光液，InSb、W/Mo、Al/Mg、W-Mo/Mg-Al等半导体及金属材料的抛光液。各种清洗液，新研制了液晶显示屏清洗剂。最新研制成功了半导体膜电-化学清洗方法,效果显著。

	公司推出具有国内领先技术的系列产品：新型蓝宝石抛光液；低K介质CMP抛光液；新型纳米磨料系列抛光液；纳米二氧化硅新型水溶胶材料。

	河北工业大学微电子技术与材料研究所被选为中国洗净工程技术合作协会-新型清洗技术专业委员会的理事长单位

	公司现正需求融资，扩大生产规模，争创佳绩。





	公司最新研制的FA/O 超大规模集成电路ULSI制备中铜布线化学机械抛光全局平面化（CMP）抛光液已完成鉴定。

	公司最新研制的FA/O 超大规模集成电路ULSI制备中铜布线化学机械抛光全局平面化（CMP）抛光液获天津市科技发明一等奖。

FA/O抛光液属于国家级新产品，并被国家科技部、国家劳动部、国家技术监督局、外国专家局、工商银行列为“九五”国家级科技成果重点推广计划，替代了美国、日本进口产品，并已开始进入国际市场。

电子清洗剂2001年被国家五部委（国家科技部、国家税务总局、外经贸部、国家质量监督检测检疫总局、国家环保总局）确定为国家级重点推广新产品。现已被有研硅谷、华微、洛阳单晶硅厂、天马等十多家厂商应用，并出口台湾。

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